光学器件（光衍射格子、変调器、光开关等等）
凹凸型微透镜
流体路径作成或光子学结晶
NLD-5700 干法刻蚀设备
工艺介绍：干法刻蚀设备
设 备：NE 系列；NLD 系列
型 号：NLD-5700
代表器件/工艺制程：SiC沟槽刻蚀、GaN沟槽刻蚀、压电MEMS的PZT薄膜刻蚀、GaN-HEMT结构中的Gate形成
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产品编号
NLD-5700
所属分类
半导体制造设备
数量
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产品详细
参数
对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的量产用干法刻蚀装置。（爱发科NLD技术设备可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子）
主要特点
• 在洁净房内作业可扩张为双腔。(可选配腔室：NLD、有磁场ICP、CCP或者去胶室)
• NLD为时间空间可控的等离子，因此设备干法清洁容易
• 腔体维护简便
• 从掩模刻蚀到石英、玻璃刻蚀，可提供各类工艺解决方案
• 专门的半导体技术研究所会提供万全的工艺支持体制
主要应用：
上一个
等离子化学气相沉积设备
下一个
无
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