功率器件
LED
光通信/传感器
LD
高校及研究所
Batch式高真空蒸发设备Ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制,实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化操作,适用于研究开发及少量生产
蒸发材料:金属,ITO,二氧化硅等材料
主要特点
• 金属,合金,非金属,化合物等材料的高品质蒸发镀膜
• 镀膜精度高,可达10E-10m
• 蒸发镀膜的纯度高,附着力强
• 镀膜的均匀性好,重复性优异
• 配置离子源进行表面处理
• 配置热阻蒸发,省材料
• 上位通信,材料扫描功能
• C2~12inch,不定型片,方片蒸发
主要应用:
功率器件
LED
光通信/传感器
LD
高校及研究所
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