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等离子化学气相沉积设备
等离子化学气相沉积设备
等离子化学气相沉积设备
工　　艺：薄膜沉积
工艺介绍：等离子化学气相沉积设备
设　　备：PECVD
型　　号：CC-200Cz
代表器件/工艺制程：Vox(IR sensor)制造工艺
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NLD-5700 干法刻蚀设备
NLD-5700 干法刻蚀设备
NLD-5700 干法刻蚀设备
工　　艺：刻蚀
工艺介绍：干法刻蚀设备
设　　备：NE 系列；NLD 系列
型　　号：NLD-5700
代表器件/工艺制程：SiC沟槽刻蚀、GaN沟槽刻蚀、压电MEMS的PZT薄膜刻蚀、GaN-HEMT结构中的Gate形成
查看详细 白箭头 黑箭头
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